新華社杭州9月2日電（記者張泉）國家智慧財産權局局長申長雨2日在杭州舉行的第十屆中國智慧財産權年會上表示，我國將繼續堅定不移實施嚴格的智慧財産權保護制度，持續營造良好的創新環境和營商環境。

　　申長雨表示，我國將實施更加嚴格的商標侵權懲罰性賠償制度，加大對商標惡意注冊和囤積行為的打擊力度；同時，加快推進專利法的修改，建立侵權懲罰性賠償制度和藥品專利保護期補償制度，延長外觀設計專利保護期，更好地保護專利權。

　　在審查業務層面，我國將持續提升智慧財産權審查品質和審查效率，提高專利、商標授權的及時性和權利的穩定性，更好地滿足社會需求。

　　近年來，我國智慧財産權事業發展駛入快車道，智慧財産權創造品質、保護效果、運用效益和國際影響力不斷提升：專利、商標年申請量穩居世界首位；智慧財産權保護社會滿意度由2012年的63.69分提高到2018年的76.88分；在世界智慧財産權組織發布的《2019全球創新指數報告》中，中國排名第14位，位居中等收入經濟體之首。

　　“實行嚴格的智慧財産權保護制度，不僅是我們履行國際義務的需要，更是建設創新型國家、實現自身發展的需要，是中國政府一以貫之的原則立場和既定方針。”申長雨説。

　　與此同時，我國將著眼國際，更大力度加強智慧財産權保護國際合作，加快構建多邊、周邊、小多邊、雙邊“四邊聯動、協調推進”的智慧財産權國際合作新格局。

　　據介紹，此屆年會是首次由中國專利資訊年會和中國專利年會升級為中國智慧財産權年會，涵蓋了專利、商標、地理標誌等多種智慧財産權，以及運營、服務、維權、立法、司法等多個方面的內容。同期還將舉辦專利資訊服務和産品展覽、商標展和以“地大物博，標新創異”為主題的中國地理標誌展。

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責任編輯： 吳咏玲