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全球300余位專家齊聚中國“光谷” 共話光電産業未來
2019-11-13 19:08:36 來源: 新華網
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  新華社武漢11月13日電(記者鄒學冕、張悅姍)第十六屆“中國光谷”國際光電子博覽會暨論壇13日在武漢東湖新技術開發區開幕,逾300位來自中、美、德、日、南非等多國的頂尖學者和商界領袖匯聚一堂,共同探討前沿光電科技,共商光電産業未來。

  據主辦方介紹,參加本屆博覽會暨論壇的專家層次再創歷史新高,活動期間,多位國際頂尖學者將分別參加國際信息光電子産業高峰論壇、光學青年科學家論壇、微納光電子高峰論壇、超快激光高峰論壇等24場專題論壇。

  記者在現場看到,在當天舉行的國際信息光電子産業高峰論壇上,2014年諾貝爾獎得主、美國斯坦福大學教授威廉·莫納,以及三維光學顯微成像理論先驅、澳大利亞科學院院士顧敏分別就“生物單分子三維納米光子學”和“納米級別的光學成像技術”等前沿問題展開了研討。

  本屆博覽會暨論壇將于15日閉幕,除吸引300余位專家學者與會外,包括聖德科、艾克斯布魯等在內的400家全球光電子參展企業也將在活動期間亮相。

  一年一度的“中國光谷”國際光電子博覽會暨論壇由工業和信息化部、科學技術部、國家知識産權局、中國科學院、中國國際貿易促進會、湖北省人民政府聯合主辦,經過15年的發展,已經成為國內規模最大、最具國際影響力的光電子産業盛會。

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【糾錯】 責任編輯: 劉笑冬
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