因涉及“光刻機”誤導性陳述，蘇大維格正在被追責。10月12日晚間，蘇大維格（300331）披露深交所關注函，公司在互動易&&對有關“光刻機”相關回復受到媒體和投資者廣泛質疑，並引起股價大幅波動，涉嫌存在不真實、不準確、不完整情形及誤導性陳述，市場影響惡劣，交易所將對蘇大維格及相關違規當事人啟動紀律處分程序。
此“光刻”非彼“光刻”的誤導性陳述始於上市公司在互動易&&的系列表述。“公司光刻機以實現向國內龍頭芯片企業的銷售，並已實現向日本、韓國、以色列等國家出口”、“公司已關注到納米壓印光刻在集成電路和芯片製造領域具備替代傳統光刻的應用潛力，並在積極布局”，蘇大維格9月14日午間的上述&&，直接引燃市場情緒。
當日午間開盤後，蘇大維格股價即獲大幅拉升，並斬獲20%漲停收於33.12元/股，當天成交額達到15.55億元。
9月15日一早，深交所便向蘇大維格下發關注函，要求公司補充披露所生産光刻設備的具體類型、主要客戶及下游用途等問題，並進一步提示相關風險。
當天晚間，蘇大維格披露了線上半年報業績説明會紀要，其中對光刻設備問題有所回應。公告稱，公司高端智能裝備包括直寫光刻、3D光刻、投影/掃描光刻、納米壓印光刻設備等，部分直寫光刻設備已向國內外高校及科研院所、國內企業等銷售。現階段，公司光刻設備銷售規模相對有限，部分應用領域離國際先進水平具有一定差距，需要持續的研發投入。
更多的業務細節則在問詢函回復中才揭開。10月8日晚間，蘇大維格詳細回復了相關問題。
據介紹，光刻技術是現代半導體、顯示面板、光電子等領域的産品製造過程中不可或缺的工藝流程之一。從曝光方式上，光刻機可以分為掩模光刻機（在運行過程中均需要使用掩模板），包括接觸式/接近式光刻機，投影式光刻機等；以及無掩模光刻機，即直寫光刻機，包括電子束光刻機、激光直寫光刻機、激光直接成像設備等。半導體及平板顯示製造普遍採用“直寫光刻製作掩模+投影光刻批量複製”的工藝過程。
蘇大維格坦言，一般所稱的光刻機是有掩模光刻機中的投影式光刻機，與公司所生産的激光直寫光刻機不屬於同一技術路線。公司自2001年左右開始研發各類光刻設備，包括激光直寫光刻機、納米壓印設備等，前述設備主要用於微納光學産品和衍射光學器件的製造，公司所生産的光刻設備目前不涉及集成電路領域相關産品的生産。
此外，蘇大維格開發生産的激光直寫光刻設備目前主要是自用，公司對外銷售的金額較小，2022年實現對外銷售收入約770.93萬元，2023年上半年對外銷售收入約2177.27萬元。
就公司光刻設備是否能夠直接用於芯片研發及製造，蘇大維格&&，公司光刻設備目前不涉及集成電路領域相關産品的生産，這部分市場被行業龍頭公司主導和壟斷。公司光刻設備主要為自用於各類微納光學産品和衍射光學器件的製造，對外銷售金額較小，外部客戶採購主要用於相關領域的研發、試製和微納光學材料等生産。公司激光直寫光刻設備在最小線寬、線寬均勻度、網格精度、穩定性等關鍵技術參數與同行業龍頭公司相比存在較大差距。
在監管問詢下，蘇大維格在回復函中還進行了致歉。公司證券部門在回復相關互動易問題時，直接使用了“光刻機”、“龍頭芯片公司”等可能引起誤解的表述，未能充分考慮到部分投資者可能對光刻機的技術路線、相關技術的具體應用領域等情況不了解，未詳細説明公司光刻設備的具體類型，公司主要的應用領域，與行業龍頭企業的差距，以及客戶主要用途等信息；也未説明相關設備收入佔公司收入比重較低，未充分提示相關風險。對此，公司及證券部門誠懇向投資者&&歉意，並將積極吸取經驗教訓，進一步完善相關制度和程序等。
此番問詢函回復披露之際，蘇大維格還公布收到證監會的立案通知。因蘇大維格涉嫌信息披露違法違規，中國證監會決定對蘇大維格立案調查。
蘇大維格&&，立案調查期間，公司將積極配合中國證監會的調查工作，並嚴格按照監管要求履行信息披露義務。目前，公司各項生産經營活動正常開展。
二級市場上，蘇大維格近期股價震蕩下跌，現價24.82元/股，已跌回前述“光刻機”概念狂歡前水平。（記者 李曼寧）
