尼康與英特爾共同研發新一代半導體曝光設備
2012年08月09日 14:19:20  來源: 共同網 【字號 】【收藏】【打印】【關閉

  尼康8日透露,正在與主要客戶美國英特爾公司共同研發用於半導體生産的新一代半導體曝光設備。此舉旨在減輕鉅額投資負擔。尼康副社長伊藤純一在當天的財報記者會上&&“已經得到(英特爾方面的)研發資金支持”,但並未透露具體金額。

  研發中的新一代晶圓曝光設備直徑加大到450毫米,能有效提高生産效率,從而降低成本。此外,英特爾還計劃入股荷蘭的曝光設備廠商阿斯麥,意在讓尼康與阿斯麥形成研發競爭。

  尼康8日披露的2012年度第一財季(4至6月)凈利潤為157億日元(約合人民幣12.7億元),較去年同期大幅縮水48.6%。雖然數碼相機銷售表現堅挺,但仍未能抵消日元升值帶來的影響。(共同網

新聞分享: 分享分享到新華微博
分享到QQ空間 分享到騰訊微博
延伸閱讀:
( 編輯: 謝艷 ) 【字號 打印關閉