本報北京4月5日電
最高人民法院、最高人民檢察院今天（5日）聯合&&新的辦理侵犯知識産權刑事案件司法解釋，大幅降低知識産權犯罪刑事制裁“門檻”，進一步加大知識産權的保護力度。
最高人民法院有關負責人介紹，根據我國近年來保護知識産權形勢的發展，以及司法實踐中出現的新情況、新問題，兩司法機關對2004年&&的司法解釋進行了補充和完善。
新司法解釋明顯降低了侵犯著作權罪的數量門檻。規定以營利為目的，未經著作權人許可，複製發行其文字作品、音樂、電影、電視、錄像作品、計算機軟體及其他作品，複製品數量合計在500張（份）以上的，屬於刑法第217條規定的“有其他嚴重情節”；複製品數量在2500張（份）以上的，屬於刑法第217條規定的“有其他特別嚴重情節”。
刑法第217條規定，“有其他嚴重情節”的，侵權人將被判處3年以下有期徒刑或者拘役，並處或者單處罰金；“有其他特別嚴重情節”的，侵權人將被判處3年以上7年以下有期徒刑，並處罰金。
根據知識産權犯罪的特點，新司法解釋統一了單位犯罪與個人犯罪的定罪量刑標準。明確單位實施刑法第213條至第219條規定的侵犯知識産權犯罪行為，按照2004年&&的司法解釋和新司法解釋規定的相應個人犯罪的定罪量刑標準定罪處罰。
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